Bu çalışmada, farklı derişimlerde (A1: 0,8 Molar, A2: 1,25x10-2 Molar, A3: 2,5x10-3 Molar) hazırlanan çözeltilere 2 şer kez 5 saniye daldırma metodu (Dip-coating) ile cam lameller üzerine TiO ince filmleri üretilmiştir ve üretilen bu filmler 500 °C’ de tavlanmıştır. Genel olarak amorf yapıya sahip bu filmlerin 2θ = 25,5° (1 0 1) Miller yönelim pikinde yayılma görülmüştür. Derişimin azalması ile küçük taneli yapılar, küresel şekilden daha irili ufaklı elipse doğru değişim göstermiştir. UV bölgede yansıtma özelliği oldukça fazla iken 400-700 nm görünür bölgede ise geçirgenlikleri oldukça fazladır. A1, A2 ve A3 derişimli TiO ince filmlerin enerji bant aralığı değerleri sırası ile Eg = 3,52 eV 2,60 eV ve 3,03 eV olarak hesaplanmıştır. Derişimin artması ile elektriksel özdirenç değerlerinin artması, oksit alt tabakalardaki özel iletkenlikten dolayı metal benzeri tipik bir davranış gösterdiğinin kanıtıdır.
In this study, TiO thin films were produced on glass lamels by Dip-Coating method at 2 times 5 seconds into solutions prepared at different concentrations (A1:0.8 Molar, A2:1,25x10-2 Molar, A3:2, 5x10-3 Molar) and these films were annealed at 500 °C. In general, these films with an amorphous structure have 2θ = 25,5° (1 0 1) a spread was observed at the Miller orientation peak. With a decrease in the concentration, small grains have changed from a spherical shape to an ellipse of larger and smaller sizes. While there is a lot of reflectivities in the UV region, their transmittance values are quite high in the visible region of 400-700 nm. The energy band gap values of TiO thin films with A1, A2 and A3 concentrations were calculated as Eg = 3.52 eV; 2.60 eV and 3.03 eV, respectively. The increase in the electrical resistivity values with increasing concentration is evidence that the exhibits a typical metal-like behavior due to the particular conductivity in the oxide sub-layers.
Alan : Mühendislik
Dergi Türü : Uluslararası
Benzer Makaleler | Yazar | # |
---|
Makale | Yazar | # |
---|