Görüntüleme
12
İndirme
4
In this research, ZnO thin films were deposited on glass microscope slides in three separate experiments with RF input powers of 50 W, 100 W and 125 W by means of RF magnetron sputtering technique. Each deposition process was conducted for 30 minutes. Spectroscopic reflectometer, UV-VIS spectrophotometer and atomic force microscope (AFM) were used to examine the effect of sputtering power on the optical and surface properties of the produced thin films. The level of reflectivity and transparency, refractive index and band gap energy values as well as surface homogeneity and roughness were observed to rely on the RF input power. The optical band gap energy values were about 3.83-3.87 eV. The produced highly transparent ZnO thin films can be used in various optoelectronic devices and future transparent conductive electrode implementations.
Bu araştırmada, RF magnetron sıçratma tekniği ile 50 W, 100 W ve 125 W RF güçleri ile üç ayrı deneyde ZnO ince filmler cam mikroskop lamlarının üzerine biriktirilmiştir. Her biriktirme işlemi 30 dakika sürdürülmüştür. Spektroskopik reflektometre, UV-VIS spektrofotometre ve atomik kuvvet mikroskobu (AFM), üretilen ince filmlerin optik ve yüzey özellikleri üzerine sıçratma gücünün etkisini incelemek için kullanılmıştır. Yansıtma ve geçirgenlik düzeyi, kırılma indisi ve yasak enerji aralığı değerleri ile yüzey homojenliği ve pürüzlülüğün RF gücüne bağlı olduğu bulunmuştur. Yasak enerji aralığı yaklaşık 3.83-3.87 eV civarındadır. Üretilen son derece şeffaf ZnO ince filmler, çeşitli optoelektronik cihazlar ve gelecekteki şeffaf iletken elektrot uygulamalarında kullanılabilir.
Alan : Fen Bilimleri ve Matematik; Mimarlık, Planlama ve Tasarım; Mühendislik; Ziraat, Orman ve Su Ürünleri
Dergi Türü : Uluslararası
Makale Detay 
Benzer Makaleler
PDF Görüntüle
Dergi Bilgisi
Eseri Dinleyin
Alıntı Yap
Bu Sayfayı Yazdırın
Paylaş
Mendeley
